ひびきの半導体アカデミー「電子線描画リソグラフィスクール」のご案内

《今回は、2016年3月度開催講座のご案内です》

●開催講座詳細●

■開催講座：九州地区ナノテクノロジー・プラットフォーム

H27年度　電子線描画リソグラフィスクール

■主催：微細加工プラットフォーム

（東京工業大学及び北九州産業学術推進機構）　協賛：ひびきの半導体アカデミー

■開催日時：講義⇒平成28年3月1日(火)　13:15～16:00

実習⇒平成28年3月2日(水)・3月3日(木)　10:00～17:00

■会　　場：北九州学術研究都市

講義⇒産学連携センター2F　研修室　　　実習⇒共同研究開発センター

■講座概要：FAISは、文部科学省ナノテクノロジープラットフォーム事業の微細加工プラットフォームの一員として活動しております。

この度、同プラットフォームの東京工業大学と「電子線描画リソグラフィスクール」を開催します。

本スクールは、文部科学省ナノテクノロジー・プラットフォーム事業の一環として、産学官の研究者に電子線描画リソグラフィ技術を

中心とした超微細加工に関する装置やその原理を学習する場と、電子線描画リソグラフィ技術を実地に習得する機会を提供し、

ナノテクノロジーにおける人材育成に貢献することを目的としています。

講義では電子線描画リソグラフィ技術およびフォトリソグラフィに関する講義３コマを行います。

また希望者に対して、電子線描画リソグラフィに関する実習を実施します。

■講座内容：

【講義】「高精度電子ビームナノリソグラフィとその応用」

講師：東京大学　生津英夫氏「電子線リソグラフィの高解像・高速化」

講師：日立中央研究所　山本治朗氏「デバイス・プロセスを見込んだ電子ビーム露光」

講師：東京工業大学　宮本恭幸氏

【実習】　①・②とも希望者のみ

①3月2日「電子線描画基本コース」

高速トランジスタでのTゲート作成に用いられる、三層レジスト形成というリソグラフィ工程の実習を行います。

②3月3日「電子線描画応用コース」

参加者が希望する加工パターンにも対応可能です。※事前に相談要

講師：東京工業大学　河田眞太郎氏

■対象者：

・学部卒業以上またはそれと同等以上の経験を有する産官学の研究・開発従事者（大学院生は指導教員の許可を得ることが条件です）

・電子線描画・微細加工に関する経験不問

■募集定員：講義　50名、実習①②　各3名（いずれも先着順）

■受講料：無料

■お申込方法　半導体･エレクトロニクス技術センターHPよりお申込みください。

■募集期間：定員になり次第〆切

講義⇒平成27年2月17日（木）～平成28年2月23日（火）

実習⇒平成27年2月17日（木）～平成28年2月2日（火）

●半導体・エレクトロニクス技術センター総合案内● 　http://www.ksrp.or.jp/fais/sec/

●お問い合わせ● 　公益財団法人北九州産業学術推進機構（FAIS）

半導体・エレクトロニクス技術センター　担当：上野

Tel：093-695-3007